Tyhjiöhopeapinnoitetun magnetronikohteen käyttöjännite on alhainen, kun tapahtuu sputterointia
Jätä viesti
Tyhjiöhopeapinnoitetun magnetronikohteen käyttöjännite on alhainen, kun tapahtuu sputterointia
The increase of the ionization probability of the working gas and the improvement of the ionization rate of the target material reduce the internal resistance during the discharge of the vacuum gas, so the working voltage of the magnetron target during sputtering deposition is low (mostly between 4-600V), and there are The working voltage is slightly higher (such as >700 V), ja jotkut käyttöjännitteet ovat alhaisempia (kuten noin 300 V).
Vakuumi hopeakerrostus alustalle kalvon muodostamiseksi
Sputteroiduilla hiukkasilla on tietty tehtävä, ne ampuvat kohti substraattia tiettyyn suuntaan ja lopulta kerrostuvat alustalle muodostaen kalvon. Monien törmäysten jälkeen elektronien energia laskee vähitellen, vapautuu voimalinjojen kahleista ja putoaa lopuksi alustalle, tyhjökammion sisäseinään ja kohdevirtalähteen anodille.
Tyhjiöhopeapinnoituksen kohdepinnalla oleva magneettikenttä rajoittaa varautuneita hiukkasia
Kohteen pinnalla oleva magneettikenttä rajoittaa varautuneita hiukkasia. Sähkömagneettisen kentän rajoittamisen ja elektronien kiihtyvyyden vuoksi elektronit kulkevat polkuja ennen kuin ne saavuttavat substraatin ja anodin, mikä lisää suuresti paikallisen AR-kaasun törmäysionisaatiotodennäköisyyttä. Sähkökentän vaikutuksesta ioni Ar plus kiihdyttää kohteen pommittamista katodina ja sputteroi elektroneja, kuten molekyylejä, atomeja ja ioneja kohteen pinnalle, mikä parantaa kohteen sputteroinnin irtoamisnopeutta.
Kaksivaiheinen sputterointi tyhjiöhopeakäsittelytilassa
Magnetronisputterointi on kaksivaiheisen sputteroinnin toimintatapa. Se eroaa pääasiassa kaksi- ja nelivaiheisesta ruiskutuksesta; yksi on, että kestomagneetti tai sähkömagneetti asetetaan sputteroivan katodin kohteen taakse. Magneettikenttä, jossa on vaakakomponentti tai magneettikenttä, jossa on pystykomponentti, syntyy kohdepinnalle, ja kaasupurkauksen synnyttämät elektronit kulkevat tietyllä kiertoradalla plasma-alueella lähellä kohdepintaa; Kiitotie pyörii ympyröissä.
www.superbheater.com
